光刻 Photolithography




光刻(英语:photolithography)是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆,还可以是其他金属层、介质层,例如玻璃、SOS中的蓝宝石。
单词 | photoetching |
释义 |
photoetching
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照相版
词组 | 习惯用语
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photoetching n. 光刻,[电子] 光刻法;照相腐蚀法;照相感光制凸版 automatic projection photoetching machine 自动投影光刻机 网络短语:photoetching glue 光刻胶 photoetching material 光刻材料 latent-image photoetching 无显影光刻 photoetching detail 光刻 photoetching method 光刻法 photoetching objectives 光刻物镜 photoetching machine 光刻机 cd photoetching 光盘刻录 photoetching technique 光刻技术 laser photoetching 激光光刻
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光刻 Photolithography(重定向自Photoetching)
![]() ![]() ![]() ![]() 光刻(英语:photolithography)是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆,还可以是其他金属层、介质层,例如玻璃、SOS中的蓝宝石。
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Photolithography 光刻(重定向自Photoetching)
![]() ![]() ![]() Photolithography, also termed optical lithography or UV lithography, is a process used in microfabrication to pattern parts of a thin film or the bulk of a substrate. It uses light to transfer a geometric pattern from a photomask to a light-sensitive chemical "photoresist", or simply "resist," on the substrate. A series of chemical treatments then either engraves the exposure pattern into, or enables deposition of a new material in the desired pattern upon, the material underneath the photo resist. For example, in complex integrated circuits, a modern CMOS wafer will go through the photolithographic cycle up to 50 times. |
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